RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1996, том 23, номер 11, страницы 1025–1028 (Mi qe859)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Устойчивость расплава в парогазовом канале при плавлении металлов импульсным лазерным излучением

С. В. Каюков, А. А. Гусев

Самарский филиал Физического института им. П. Н. Лебедева РАН

Аннотация: Проанализированы экспериментальные данные об устойчивости ванны расплава при воздействии на стали миллисекундных импульсов свободной генерации с изменяемым временным профилем. Получены критические плотности потока излучения, соответствующие порогу нарушения устойчивости ванны расплава и выброса частиц жидкого металла при воздействии импульсов различной формы. Установлено, что необходимым условием сохранения устойчивости ванны расплава при образовании и росте парогазового канала является формирование достаточно большого первичного объема расплава (буферного объема), что может быть обеспечено за счет растягивания переднего фронта импульсов излучения. Оптимизация параметров излучения позволила получить глубину продвижения фронта плавления 5.8 мм при энергии в импульсе 34.0 Дж. В этом случае критическая плотность мощности в 6 раз превышает соответствующую величину в режиме плавления без образования парогазового канала.

PACS: 61.80.Ba, 64.70.-p, 42.62.Cf

Поступила в редакцию: 01.01.1996


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1996, 26:11, 999–1002

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024