Применение лазеров на центрах окраски в щелочно-галоидных кристаллах для внутрирезонаторной лазерной спектроскопии

Получена генерация на F₂⁺-центрах в LiF, стабилизированных примесью ОН при накачке светом рубинового лазера в режиме свободной генерации. Спектральная область генерации оказалась равной 0,84–1,13 мкм. В неселективном резонаторе методом внутрирезонаторной лазерной спектроскопии (ВЛС) получен спектр поглощения атмосферного воздуха в области 0,9–0,98 мкм. Чувствительность определялась длительностью импульсов накачки 1 мкс и составила 3·10^–5см^–1. В этой же спектральной области получены спектры поглощения C₂H₂, CH₃OH и CH₄. Показана перспективность применения лазеров на центрах окраски в щелочногалоидных кристаллах в методе ВЛС.