RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1977, том 4, номер 3, страницы 587–595 (Mi qe9471)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Влияние адсорбированной воды на лучевую стойкость элементов ИК оптики

В. И. Ковалев, Ф. С. Файзуллов

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва

Аннотация: Спектроскопическими и масс-спектрометрическими методами исследован состав веществ, вылетающих с поверхности полированных прозрачных ИК материалов при воздействии излучения импульсного CO2-лазера. Показано, что основными компонентами этих веществ являются вода, гидроксил и материал образца. В результате лазерной очистки наблюдается уменьшение количества воды и гидроксила, что приводит к повышению порога пробоя у поверхности. Порог пробоя у поверхности, свободной от адсорбированного слоя воды (поверхность скола в вакууме), равен порогу объемного разрушения материала образца. Исследована динамика развития плазмы пробоя у поверхности и измерена ее температура. Рассмотрены возможные пути, повышения лучевой прочности поверхности элементов ИК оптики за счет уменьшения адсорбционных свойств поверхности. На примере образцов из NaCl показано, что химическое травление механически полированной поверхности позволяет повышать порог пробоя в 5–6 раз на короткое время (5 мин) и в 2,5–3 раза на длительный срок (не менее 3 мес).

УДК: 621.3.038.8:535.21

PACS: 42.60.He, 42.70.Fh, 79.20.Ds

Поступила в редакцию: 21.05.1976


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1977, 7:3, 326–330


© МИАН, 2024