RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1997, том 24, номер 6, страницы 551–556 (Mi qe974)

Эта публикация цитируется в 19 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Электрические поля лазерной искры при различных параметрах греющего излучения

А. В. Кабашин, П. И. Никитин

Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва

Аннотация: Экспериментально исследована пространственно-временная структура электрических полей лазерной искры для различных длин волн (0.53, 1.06 и 10.6 мкм), длительностей импульса (микро-, нано- и субнаносекундные) и интенсивностей (I = 109 – 1013 Вт/см2) излучения. Обнаружено, что распределение полей вблизи искры соответствует квадрупольной конфигурации зарядов в плазме, состоящей из двух противоположно направленных диполей в районе переднего и заднего плазменных фронтов. Установлены закономерности пространственной эволюции квадрупольной потенциальной структуры в зависимости от длительности импульса и интенсивности излучения, в частности условия относительного доминирования и вырождения составляющих ее диполей. Измерены характерные моменты этих диполей при различных параметрах излучения. Показано, что основное влияние на амплитуду полей вне искры оказывает геометрический фактор, связанный с поперечными размерами плазменной области. Кроме того, при высоких интенсивностях (I ≥ 1013 Вт/см2) к указанной зависимости добавляется вклад нелинейного механизма, зависящего от длины волны излучения и вызывающего значительные изменения амплитуды и структуры полей.

PACS: 52.50.Jm, 52.80.Mg, 51.50.v

Поступила в редакцию: 22.01.1997


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1997, 27:6, 536–541

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024