Оптический пробой кристаллов LiF с радиационными ЦО

Исследована лучевая прочность кристаллов LiF до и после γ-окрашивания на длине волны 1,06 мкм. Измерены пороги оптического пробоя в различных условиях фокусировки. Обнаружено, что γ-окрашивание не ухудшает лучевую прочность кристаллов LiF при воздействии слабосфокусированного излучения и повышает порог пробоя в случае острой фокусировки. Обсуждаются возможные механизмы разрушения исследуемых кристаллов.