RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теоретическая и математическая физика // Архив

ТМФ, 2023, том 215, номер 3, страницы 360–376 (Mi tmf10408)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Контрастные структуры в задаче реакция-адвекция-диффузия, возникающей в дрейфо-диффузионной модели полупроводника, в случае негладкой реакции

Е. И. Никулин

Физический факультет, Московский государственный университет им. М. В. Ломоносова, Москва, Россия

Аннотация: Рассмотрена краевая задача для сингулярно возмущенного уравнения реакция-адвекция-диффузия в случае малой нелинейной адвекции и негладкой реакции, возникающая в дрейфо-диффузионной модели полупроводника. Ключевой особенностью исследуемой задачи является разрыв производной реактивного слагаемого относительно пространственной координаты в некоторой заранее известной точке, лежащей внутри рассматриваемого интервала. С помощью асимптотического метода дифференциальных неравенств показано, что у поставленной задачи могут сосуществовать несколько решений, обладающих в малой окрестности точки разрыва внутренним переходным слоем. Каждое из этих решений может быть как асимптотически устойчивым по Ляпунову, так и неустойчивым, для обоих этих случаев выявлены достаточные условия. Из результатов асимптотического исследования следует, что при условии заданного внешнего тока в полупроводнике c N-образной зависимостью скорости дрейфа от напряженности электрического поля в малой окрестности некоторой его внутренней точки могут сосуществовать два соседствующих стационарных обедненных электронами слоя, если в этой точке равновесная концентрация электронов является недостаточно гладкой функцией пространственной координаты.

Ключевые слова: сингулярно возмущенные эллиптические задачи, уравнения реакция-адвекция-диффузия, внутренние переходные слои, метод дифференциальных неравенств, негладкий источник, обедненный электронами слой, GaAs, N-образная вольт-амперная характеристика.

PACS: 61.82.Fk

MSC: 35B25, 35K57

Поступило в редакцию: 20.11.2022
После доработки: 29.01.2023

DOI: 10.4213/tmf10408


 Англоязычная версия: Theoretical and Mathematical Physics, 2023, 215:3, 769–783

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024