RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1971, том 9, выпуск 6, страницы 1139–1150 (Mi tvt10535)

Исследования плазмы

Электропроводность неидеальной низкотемпературной плазмы и ее металлизация

А. Г. Храпак, И. Т. Якубов

Институт высоких температур Академии наук СССР, г. Москва

Аннотация: При сильном сжатии плазмы от газовых плотностей до плотностей, порядка металлических электропроводность возрастает на несколько по­рядков. На первом этапе этого процесса неидеальная невырожденная плазма обладает свойствами, характерными для некоторых полупровод­ников. Ее электропроводность вычислена по формуле Кубо с учетом взаи­модействия заряженных частиц с нейтральными, которое является силь­ным. При еще больших плотностях на втором этапе металлизации плазма, по-видимому, становится гетерогенной системой. Это позволяет объяснить некоторые аномальные зависимости, наблюдаемые, в частности, в плазме паров ртути.

УДК: 533.9.01

Поступила в редакцию: 19.04.1971



© МИАН, 2024