RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2008, том 46, выпуск 6, страницы 805–813 (Mi tvt1151)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Исследование плазмы

Новый способ описания экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Однокомпонентные системы

А. А. Михайловa, И. Вительb, Л. М. Игнатовичa

a Институт физики, Белград
b Laboratoire de physique des plasmas (LPP) - UMR 7648, Université Pierre-et-Marie-Curie

Аннотация: Предложено новое описание электростатического экранирования в однокомпонентной плазме, свободное от нефизичных свойств, присущих модели Дебая—Хюккеля. Метод пригоден для сильно неидеальной плазмы. Параметры экранирования представлены в простой аналитической форме. Результаты данной части работы являются основой для последующего описания экранирования в плотной двухкомпонентной плазме, изложенного в продолжении настоящей работы.

УДК: 533.9.02

PACS: 52.27 Aj, 52.27 Gr

Поступила в редакцию: 25.12.2007


 Англоязычная версия: High Temperature, 2008, 46:6, 737–745

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024