RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2004, том 42, выпуск 2, страницы 198–207 (Mi tvt1507)

Исследование плазмы

Влияние потока распыленных с анода атомов на протекание тока в вакуумной дуге

Я. И. Лондер, К. Н. Ульянов

Всероссийский электротехнический институт им. В. И. Ленина

Аннотация: Рассмотрена задача о влиянии распыленных с анода атомов на течение быстрых катодных ионов в вакуумном разряде при относительно невысоких ($\sim100$ А/см$^2$) плотностях тока. Для решения задачи применялась модель мгновенной ионизации и модель, учитывающая конечную длину ионизации. В расчетах определена граница области устойчивого прохождения тока в зависимости от плотности тока дуги, плотности потока распыленных атомов и их скорости. Показано, что в изученном диапазоне токов нецелесообразно учитывать давление быстрых ионов в уравнениях движения и баланса энергии, поскольку эти ионы практически не сталкиваются друг с другом за время пролета разрядного промежутка. Расчеты позволили определить границу применимости модели мгновенной ионизации, за пределами которой необходимо учитывать динамику процесса ионизации атомов в прианодной области.

УДК: 537.525.5

Поступила в редакцию: 21.05.2003


 Англоязычная версия: High Temperature, 2004, 42:2, 190–200


© МИАН, 2024