RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2000, том 38, выпуск 1, страницы 19–23 (Mi tvt2012)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Исследование плазмы

Механизм увеличения толщины зоны теплового воздействия при импульсно-периодической обработке мишени электронным пучком

А. Б. Марков, В. П. Ротштейн

Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск

Аннотация: На основании численного моделирования температурных полей проанализированы причины роста толщины слоев зоны теплового воздействия в мишени из стали $45$ при импульсно-периодическом воздействии низкоэнергетичным сильноточным электронным пучком в режиме начального плавления. Сделан вывод о том, что рост толщины этих слоев обусловлен, главным образом, разбросом плотности энергии пучка от импульса к импульсу и наличием отдельных импульсов с повышенным относительно среднего значением плотности энергии. Показано, что изменение теплофизических свойств стали, происходящее при облучении за счет насыщения приповерхностной области мишени углеродом, приводит к росту толщины только тех слоев зоны теплового воздействия, которые формируются в области бывшего расплава. Измерена и численно рассчитана зависимость температуры мишени от количества импульсов облучения. Показано, что повышение температуры мишени не оказывает заметного влияния на рост толщины зоны теплового воздействия.

УДК: 536.42

Поступила в редакцию: 02.04.1998


 Англоязычная версия: High Temperature, 2000, 38:1, 15–19

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024