RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2011, том 49, выпуск 1, страницы 23–27 (Mi tvt246)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Исследование плазмы

Особенность электрического поля на линии смачивания диэлектрической поверхности

А. Б. Петрин

Объединенный институт высоких температур РАН, г. Москва

Аннотация: Рассматривается электрическое поле в окрестности линии смачивания диэлектрической пластины проводящей или диэлектрической жидкостью. Показано, что электрическое поле имеет на линии смачивания особенность, при которой модуль поля стремится к бесконечности, когда расстояние от линии смачивания стремится к нулю. При отличном от нуля угле смачивания данная особенность является интегрируемой, причем полная объемная плотность электрической энергии остается конечной. Результаты расчетов позволяют сделать вывод, что особенность электрического поля существует при любых углах смачивания, отличных от нуля и $180$ градусов, и положительных значениях диэлектрических проницаемостей.

УДК: 532.61

Поступила в редакцию: 04.03.2010


 Англоязычная версия: High Temperature, 2011, 49:1, 22–26

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024