RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1997, том 35, выпуск 2, страницы 194–199 (Mi tvt2475)

Исследование плазмы

О причинах аномальной электронной эмиссии металлов при импульсном нагревании электрическим током

Н. В. Степанова

Объединенный институт высоких температур РАН, г. Москва

Аннотация: На основе экспериментального исследования аномалий электронной эмиссии металлов в твердом состоянии, наблюдаемых при импульсном нагревании электрическим током большой плотности ($10^6$ А/см$^2$), предложена модель неравновесных электронных поверхностных состояний. Указанные аномалии объясняются уменьшением работы выхода электрона, которое осуществляется благодаря быстрому нагреванию металла при условии отбора эмиттированных электронов. Релаксация аномальной электронной эмиссии к своему обычному значению, регистрируемая вблизи температуры плавления, связана с возникновением упорядоченной структуры металла, характерной для сильно неравновесных открытых систем. "Аномальный эффект Шоттки", обнаруженный как для чистой, так и для покрытой адсорбатом поверхности, зависит от эффективности отбора эмиттированных электронов в конкретных условиях импульсного нагревания.

УДК: 537.581

Поступила в редакцию: 29.01.1996


 Англоязычная версия: High Temperature, 1997, 35:2, 226–231

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024