RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1996, том 34, выпуск 4, страницы 501–505 (Mi tvt2767)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Исследование плазмы

Радиальное распределение давления в струе плазмы сильноточного диафрагменного разряда в вакууме

Е. В. Калашников

Научно-исследовательский институт комплексных испытаний оптико-электронных приборов и систем, г. Сосновый Бор, Ленинградская обл.

Аннотация: С помощью трех различных методов исследовано радиальное распределение давления $P(r)$ в струе эрозионной плазмы органического состава ($\mathrm{C}$, $\mathrm{O}$, $\mathrm{H}$) сильноточного диафрагменного разряда (при плотности тока в отверстии диафрагмы $j_0^{\text{max}}=400$ кА/см$^2$ и $2r_0/l_0=1$, где $2r_0=4.0$ мм – диаметр отверстия в плазмообразующей диафрагме, $l_0=$ толщина диафрагмы) в вакууме при $p_{\text{нач}}=10$ Па. Показано, что в радиальном распределении давления на квазистационарной фазе развития разряда ($50$$250$ мкс) вблизи оси струи плазмы имеется плато размером $\sim5r_0$. Преобладающим в распределении $P(r)$ в приосевой зоне струи $(6r_0<r<10r_0)$ оказывается уменьшение давления к периферии, уравновешивающее магнитное давление, создаваемое собственным током разряда.

УДК: 533.9:537.52

Поступила в редакцию: 05.06.1995


 Англоязычная версия: High Temperature, 1996, 34:4, 495–499

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024