RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1988, том 26, выпуск 3, страницы 428–435 (Mi tvt4295)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Исследование плазмы

Двумерная структура нормального тлеющего разряда и роль диффузии в формировании катодного и анодного токовых пятен

Ю. П. Райзер, С. Т. Суржиков

Институт проблем механики АН СССР

Аннотация: Приводятся результаты численного моделирования двумерного столба стационарного тлеющего разряда между плоскими электродами в широком диапазоне токов. Показано, что при увеличении тока и площади катодного пятна происходит выход на режим с постоянной (нормальной) плотностью тока в середине пятна. Проводится сопоставление с одномерной теорией катодного слоя. Особое внимание уделено выяснению роли диффузии, в том числе "счетной", на формирование катодного и анодного слоев. Проводится сопоставление с измерениями плотности тока на аноде и обсуждаются физические механизмы, управляющие формированием слоев.

УДК: 537.525

Поступила в редакцию: 01.07.1987


 Англоязычная версия: High Temperature, 1988, 26:3, 304–311

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024