RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1984, том 22, выпуск 4, страницы 644–649 (Mi tvt5790)

Исследования плазмы

Определение профилей температуры на поверхности радиационно-охлаждаемого анода и средней плотности тока в анодном пятне аргоновых дуг

А. Б. Ивашкин, Н. П. Козлов, Н. Н. Решетников

МВТУ им. Н. Э. Баумана

Аннотация: Рассмотрен температурный режим радиационно-охлаждаемого анода. Измерены распределения температуры по поверхности анода в сильноточной дуге пониженного давления. Предложена полуэмпирическая методика определения плотности тока на аноде в распределенном разряде. Значения плотности тока лежат в диапазоне $5$$40$ А/см$^2$.

УДК: 537.5

Поступила в редакцию: 20.07.1983


 Англоязычная версия: High Temperature, 1984, 22:4, 512–517

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024