Особенности спектра плазмы ВЧ-разряда при травлении алюминия

Проведено спектроскопическое исследование процесса травления алюминия в ВЧ-газовом разряде тетрахлорметана. На основе разработанной спектральной методики изучения механизмов процессов показано, что наиболее вероятным механизмом образования активных частиц в разряде является диссоциативное прилипание электронов. Установлено, что за инициирование процесса травления ответственна ионная компонента плазмы, а за травление чистого алюминия отвечают радикалы хлора. Исследовано влияние добавок кислорода, азота и воды на процесс травления. Объясняется зависимость скорости травления алюминия от площади поверхности образцов.