RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2009, том 47, выпуск 2, страницы 163–174 (Mi tvt684)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Исследование плазмы

Новые характеристики экранирования в сильно неидеальной и пылевой плазме. Часть 3. Свойства и приложения

А. А. Михайловa, И. Вительb, Л. М. Игнатовичa

a Институт физики, Белград
b Laboratoire de physique des plasmas (LPP) - UMR 7648, Université Pierre-et-Marie-Curie

Аннотация: В настоящей статье обсуждены физический смысл и свойства ряда параметров экранирования, определенных в предшествующих статьях (часть 1 и часть 2) для однокомпонентных и двухкомпонентных систем. На основании данных указанных статей определены две новых характерных длины, которые довершают новую иерархию систем длин экранирования в плазме. Показано, что методы, разработанные в части 1 и части 2, позволяют получить результаты, которые применимы к сильно неидеальным газовым и пылевым плазмам и очень хорошо согласуются с имеющимися экспериментальными данными.

УДК: 537.5

PACS: 52.27.Aj, 52.27.Gr

Поступила в редакцию: 25.12.2007


 Англоязычная версия: High Temperature, 2009, 47:2, 147–157

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024