Аннотация:
Проведено исследование спектрального поглощения тонких слоев $10^{-3}$ см кварцевого стекла КУ, разогретых излучением плотной плазмы до температуры $3000$–$4000$ К, когда достигается скорость испарения кварца $10$–$20$ см/с. Исследование выполнено в области спектра $250$–$1000$ нм скоростным методом полного внутреннего отражения на границе стекло – плазма. Показано, что поглощение экспоненциально зависит от частоты и хорошо описывается сходным с формулой Урбаха выражением. Наблюдаемый на опыте спектральный ход поглощения без противоречий объясняется как фундаментальное поглощение кварцевого стекла, идущее из возбужденных колебательных состояний валентной связи $\mathrm{Si}$–$\mathrm{O}$. Несмотря на то, что в условиях высоких температур во всей исследованной области спектра величина коэффициента поглощения достигает $10^2$–$10^3$ см$^{-1}$, из-за малых толщин высокотемпературного слоя сильно ослабляется выход только УФ-излучения плазмы, но сохраняется достаточно хорошая прозрачность в видимой области спектра.