RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1974, том 12, выпуск 1, страницы 5–9 (Mi tvt7350)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Исследования плазмы

Влияние скорости испарения материала стенки на свойства плазмы капиллярного разряда

Н. Н. Огурцова, И. В. Подмошенский, В. М. Шелемина

Ленинград

Аннотация: В условиях капиллярного разряда с испаряемой стенкой (КРИС) исследовано влияние скорости испарения материала капилляра на параметры плазмы. Вариация скорости испарения достигалась за счет подбора диэлектрических материалов с близким химическим составом, но существенно отличающихся по теплоте испарения или по количеству поглощенной энергии излучения. Экспериментально показано, что характер влияния скорости испарения материала капилляра на параметры плазмы КРИС зависит от ее оптической плотности. В условиях близких к а.ч.т. при фиксированных химическом составе материала и вводимой электрической мощности увеличение скорости испарения в два раза приводит к полуторакратному повышению давления и сжатию канала разряда.

УДК: 533.907

Поступила в редакцию: 30.10.1972



© МИАН, 2024