RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1981, том 19, выпуск 3, страницы 461–468 (Mi tvt8398)

Исследования плазмы

Влияние направления подачи рабочего вещества на характеристики разряда с замкнутым дрейфом электронов

В. К. Калашников, Ю. В. Саночкин

г. Москва

Аннотация: В диффузионном приближении исследуются свойства самостоятельного $E\bot H$ разряда с анодным электрическим слоем. Для двух направлений подачи в слой рабочего вещества, из объема разрядного промежутка и через анод, получены распределения потенциала, концентраций частиц, потоков и других характеристик слоя и проведено их систематическое сравнение. Рассмотрена зависимость характеристик слоя от давления и магнитного поля. Показано сильное влияние направления подачи на структуру слоя и относительно слабое на зависимость характеристик слоя от давления и магнитного поля.

УДК: 537.521

Поступила в редакцию: 22.12.1980


 Англоязычная версия: High Temperature, 1981, 19:3, 323–330

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024