RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2008, том 46, выпуск 1, страницы 23–29 (Mi tvt979)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Исследование плазмы

Об особенности электрического поля на линии смачивания диэлектрической поверхности

А. Б. Петрин

Институт теплофизики экстремальных состояний Объединенного института высоких температур РАН, г. Москва

Аннотация: Рассматривается характер особенности электрического поля на линии смачивания диэлектрика проводящей жидкостью. Известно, что в этом случае модуль электрического поля стремится к бесконечности при стремлении расстояния от линии смачивания к нулю, т. е. электрическое поле имеет на линии смачивания особенность. При отличном от нуля угле смачивания данная особенность является интегрируемой, причем полная объемная плотность электрической энергии остается конечной. В работе показывается, что если указанную поверхность смачивает диэлектрическая жидкость, то по мере уменьшения угла смачивания существует критический угол, определяемый соотношением диэлектрических проницаемостей соприкасающихся диэлектриков. При угле смачивания меньше критического особенность электрического поля исчезает.

УДК: 532.61

PACS: 68.08.Bc

Поступила в редакцию: 05.12.2006


 Англоязычная версия: High Temperature, 2008, 46:1, 19–24

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024