RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Успехи физических наук // Архив

УФН, 1997, том 167, номер 3, страницы 289–307 (Mi ufn1295)

Эта публикация цитируется в 16 статьях

ПРИБОРЫ И МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЙ

Сканирующая туннельная микроскопия фуллеренов на поверхности металлов и полупроводников

Р. З. Бахтизинa, Т. Хашицумеb, Ш.-Д. Вонгc, Т. Сакурайc

a Башкирский государственный университет, г. Уфа
b Hitachi Advanced Research Laboratory, Hitachi, Ltd., Hatoyama, Saitama, Japan
c Institute for Materials Research, Tohoku University

Аннотация: Представлен обзор современного состояния работ по сверхвысоковакуумной сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) молекул фуллеренов с использованием результатов исследований авторов. Основное внимание уделено рассмотрению взаимодействия фуллеренов C$_{60}$, C$_{70}$ и их смеси с поверхностями полупроводников (Si(111)-7$\times$7 и Si(100)-2$\times$1) и металлов (Cu(111)-1$\times$1 и Ag(111)-1$\times$1). Использование СТМ позволило осуществить прямое наблюдение адсорбционной геометрии фуллеренов и соответствующей реконструкции поверхности, а на изображениях с высоким разрешением — обнаружить внутримолекулярные структуры, которые проанализированы теоретически с привлечением модели локального распределения заряда. Приведены и обсуждаются результаты исследования упорядоченного роста пленок фуллеренов на поверхности металлов и полупроводников.

PACS: 68.35.Bs, 61.16.Ch, 61.46.+w, 68.65.+g

Поступила: 31 декабря 1997 г.

DOI: 10.3367/UFNr.0167.199703e.0289


 Англоязычная версия: Physics–Uspekhi, 1997, 40:3, 275–290

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024