Аннотация:
Работа посвящена фундаментальным проблемам изготовления и тестирования, а также применениям в диапазоне длин волн $2$ – $60$ нм оптики, обеспечивающей дифракционное качество изображений (пространственное разрешение единицы/десятки нанометров) и востребованной для проекционной литографии, рентгеновской микроскопии, астрофизики и для фундаментальных исследований в области взаимодействия вещества (вакуума) со сверхсильными ($10^{20}-10^{23}$ Вт см$^{-2}$) электромагнитными полями. Сообщается о состоянии этих исследований в мире и о последних разработках в этой области, проводимых в Институте физики микроструктур (ИФМ) РАН.