RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Успехи физических наук // Архив

УФН, 2012, том 182, номер 5, страницы 531–541 (Mi ufn4204)

Эта публикация цитируется в 49 статьях

ИЗ ТЕКУЩЕЙ ЛИТЕРАТУРЫ

Электронная структура нитрида кремния

В. А. Гриценко

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск

Аннотация: Аморфные оксид (SiO$_2$), оксинитрид (SiO$_x$N$_y$) и нитрид (Si$_3$N$_4$) кремния являются тремя ключевыми диэлектриками в кремниевых приборах. В настоящее время нитрид кремния находит многочисленные применения, в частности, в качестве запоминающей среды в приборах флеш-памяти нового поколения. Изменение химического состава нестехиометрического нитрида кремния SiN$_x$, обогащённого кремнием, позволяет в широком диапазоне управлять его оптическими и электрическими свойствами. Настоящий обзор посвящён анализу электронной структуры нитрида кремния переменного состава.

PACS: 71.15.Mb, 71.23.-k, 77.22.-d, 77.55.df, 77.84.Bw, 78.20.-e

Поступила: 8 декабря 2011 г.
Одобрена в печать: 16 января 2012 г.

DOI: 10.3367/UFNr.0182.201205d.0531


 Англоязычная версия: Physics–Uspekhi, 2012, 55:5, 498–507

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024