Аннотация:
Аморфный оксид кремния $\rm SiO_2$ является ключевым диэлектриком в технологии и конструкции кремниевых приборов. Оксид кремния используется, в частности, в качестве туннельного диэлектрика в приборах флэш-памяти. Пробивное поле $\rm SiO_2$ превышает $10^7$ В/см. В сильных электрических полях в $\rm SiO_2$ разыгрываются явления, которые не наблюдаются в кристаллических полупроводниках. В относительно слабых электрических полях ($10^4 - 10^6$ В/см) функция распределения электронов определяется рассеянием электронов на продольных оптических фононах. В полях >$10^6$ В/cм функция распределения определяется рассеянием электронов на акустических фононах.
PACS:72.20.Ht, 72.20.Jv, 72.80.Sk, 73.40.Sx
Поступила:2 сентября 2016 г. Доработана: 7 декабря 2016 г. Одобрена в печать: 8 декабря 2016 г.