Некоторые аспекты численного моделирования взаимодействия плазмы со сплошными и капиллярно-пористыми материалами

В работе построена математическая модель процесса обработки сплошных и капиллярно-пористых материалов (КПМ) в высокочастотной (ВЧ) плазме пониженного давления. Предлагаемая модель является основой для теоретического исследования взаимодействия низкотемпературной плазмы и КПМ, а также для разработки практических методик расчета технологических параметров ВЧ-плазменной обработки материалов. Необходимость разработки модели связана с перспективами практического применения этого вида плазмы.