Критерии ортогональности хорошо локализованных базисов

Рассматривается процесс получения критерия ортогональности обобщенного хорошо локализованного базиса Вейля-Гейзенберга для случая сопряженной N-симметрии формирующей функции. Построен редуцированный базис, который является ортогональным в смысле обычного скалярного произведения при условии ортогональности базиса Вейля-Гейзенберга в смысле вещественного скалярного произведения. Для редуцированного базиса доказаны критерии ортогональности как в частотной, так и во временной области. Результаты моделирования подтверждают хорошие свойства локализации базисов и выполнимость критериев ортогональности. Полученные критерии необходимы для разработки вычислительно эффективного алгоритма формирования базисов и имеют применение при анализе и формировании сигналов, в частности в системах передачи информации с ортогональным частотно-временным уплотнением.