Аннотация:
Разработка устойчивых вычислительных алгоритмов для определения свойств тонкопленочных оптических
покрытий играет ключевую роль для успешного их применения во многих передовых областях технологии.
Настоящая статья представляет общую идею, позволяющую разрабатывать эффективные с вычислительной точки зрения и устойчивые алгоритмы определения свойств покрытий для практически всех современных производственных процессов, используемых для изготовления оптических покрытий. Эффективность одного из таких алгоритмов демонстрируется с использованием новой исследовательской методологии, названной вычислительным производством.