R. I. Batalov, V. V. Bazarov, E. M. Begishev, V. F. Valeev, V. I. Nuzhdin, F. F. Komarov, I. K. Chupris, “Структурные изменения и глубинное перераспределение имплантированных примесей In и As в Si при стационарной и импульсной термообработке”, Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki, 2026, Volume 96, Issue 4,Pages <nobr>816

Physical electronics

Структурные изменения и глубинное перераспределение имплантированных примесей In и As в Si при стационарной и импульсной термообработке

R. I. Batalov^a, V. V. Bazarov^a, E. M. Begishev^a, V. F. Valeev^a, V. I. Nuzhdin^a, F. F. Komarov^b, I. K. Chupris^b

^a Zavoisky Physical Technical Institute, Kazan Scientific Center of the Russian Academy of Sciences
^b A. N. Sevchenko Research Institute of Applied Physical Problems, Belarusian State University, Minsk

Received: 21.11.2025
Revised: 10.12.2025
Accepted: 15.12.2025

DOI: 10.61011/JTF.2026.04.62670.318-25