Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 1989 Volume 23, Issue 4,Pages 725–727(Mi phts3329)
Short Notes
Сравнение параметров глубоких центров в высокоомных полупроводниках
при измерении методом фотоэлектрической релаксационной спектроскопии
в вариантах температурного и частотного сканирования