RUS  ENG
Full version
JOURNALS // Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov // Archive

Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 1991 Volume 25, Issue 3, Pages 373–378 (Mi phts4215)

Некоторые эффекты, влияющие на профиль распределения внедренных ионов в кристаллических мишенях полупроводниковых соединений A$^{\text{III}}$B$^{\text{V}}$ после ионной имплантации

G. I. Koltsov, V. V. Makarov




© Steklov Math. Inst. of RAS, 2024