A. G. Zhdan, A. M. Kozlov, T. A. Kostinskaya, V. F. Kocherov, V. V. Ryl'kov, “Динамические вольт-амперные характеристики фоточувствительных слоистых структур на основе сильно легированного Si<nobr>$\langle\text{As}\rangle$</nobr> с блокированной проводимостью по примесной зоне”, Fizika i Tekhnika Poluprovodnikov, 1992, Volume 26, Issue 12,Pages <nobr>2024

Динамические вольт-амперные характеристики фоточувствительных слоистых структур на основе сильно легированного Si$\langle\text{As}\rangle$ с блокированной проводимостью по примесной зоне

A. G. Zhdan^a, A. M. Kozlov^b, T. A. Kostinskaya^b, V. F. Kocherov^b, V. V. Ryl'kov^b

^a Kotelnikov Institute of Radioengineering and Electronics of the Russian Academy of Sciences, Moscow
^b Institute of Radioengineering and Electronics of Russian Academy of Sciences, Fryazino Department

Received: 11.03.1992
Accepted: 17.04.1992