Слои $\alpha$-Cr$_2$O$_3$, выращенные на подложках (100) $\beta$-Ga$_2$O$_3$ методом ультразвуковой паровой химической эпитаксии (mist-CVD)

V. I. Nikolaev, R. B. Timashov, A. I. Stepanov, A. V. Chikiryaka, M. P. Scheglov, S. V. Shapenkov, V. M. Krymov

Ioffe Institute, St. Petersburg

Received: 16.06.2025
Revised: 14.07.2025
Accepted: 14.07.2025

DOI: 10.61011/PJTF.2025.20.61396.20406