RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики

ЖТФ, 2018, том 88, выпуск 8, страницы 1264–1272 (Mi jtf5851)

Аналитическая модель атомно-слоевого осаждения тонких пленок на стенки цилиндрических отверстий с высоким аспектным отношением
А. В. Фадеев, К. В. Руденко

Эта публикация цитируется в следующих статьяx:
  1. A. A. Malygin, A. A. Malkov, E. A. Sosnov, “Aleskovskii's Leading Scientific School “Chemistry of Highly Organized Substances:” from Fundamental Research to Widespread Practical Implementation”, Russ. J. Inorg. Chem., 2024  crossref
  2. A. A. Malygin, A. A. Malkov, E. A. Sosnov, “V.B. Aleskovskii's Leading Scientific Highly Organized Substance Chemistry School: from Fundamental Research to Widespread Practical Implementation”, Žurnal neorganičeskoj himii, 69:3 (2024), 294  crossref
  3. В.Ю. Васильев, “КОНФОРМНОСТЬ РОСТА ТОНКИХ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ НА РЕЛЬЕФНЫХ МИКРО- И НАНОСТРУКТУРАХ. Часть 3. Процессы атомно-слоевого осаждения, “Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника””, Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника, 2020, № 3, 26  crossref


© МИАН, 2026