RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур

ТВТ, 2008, том 46, выпуск 3, страницы 336–341 (Mi tvt1067)

Спектральные измерения вероятности рекомбинации активных частиц плазмы на твердых поверхностях в хлоре и его смесях с инертными и молекулярными газами
Д. В. Ситанов, В. И. Светцов, А. М. Ефремов

Эта публикация цитируется в следующих статьяx:
  1. Sitanov D.V. Pivovarenok S.A., “Kinetics of Atomic Recombination on Silicon Samples in Chlorine Plasma”, Plasma Phys. Rep., 44:8 (2018), 713–722  crossref  isi  scopus
  2. A. V. Dunaev, D. B. Murin, “Study of Gallium Arsenide Etching in a DC Discharge in Low-Pressure HCl-Containing Mixtures”, Plasma Phys. Rep., 44:4 (2018), 438  crossref


© МИАН, 2024