Влияние добавок $\mathrm{Ar}$ и $\mathrm{He}$ на параметры и состав плазмы $\mathrm{HCl}$
А. М. Ефремов, А. В. Юдина, В. И. Светцов

Эта публикация цитируется в следующих статьяx:

1. А. М. Ефремов, О. А. Семенова, С. М. Баринов, “Влияние начального состава смеси метан–аргон на электрофизические параметры и состав плазмы тлеющего разряда постоянного тока”, ТВТ, 53:2 (2015), 174–182      ; A. M. Efremov, O. A. Semenova, S. M. Barinov, “Influence of the initial composition of a methane–argon mixture on electrophysical parameters and plasma composition of DC glow discharge”, High Temperature, 53:2 (2015), 171–178      
2. Efremov A.M. Murin D.B., “Kinetics of Heterogeneous Decay of Chlorine and Hydrogen Atoms in Plasmas of Hcl Binary Mixtures With Ar, H-2, O-2, and Cl-2”, High Energy Chem., 49:4 (2015), 282–285    
3. A. M. Efremov, D. B. Murin, “Parameters of plasma and mechanisms of etching of metals and semiconductors in HCl + Ar, H2, O2, and Cl2 mixtures”, Russ Microelectron, 44:5 (2015), 297  
4. А. Ю. Гаврилова, А. Г. Киселёв, Е. П. Скороход, “Диаграмма метаравновесных состояний тяжелых инертных газов”, ТВТ, 52:2 (2014), 174–185      ; A. Yu. Gavrilova, A. G. Kiselev, E. P. Skorokhod, “Meta-Equilibrium Phase Diagrams of Heavy Inert Gases”, High Temperature, 52:2 (2014), 157–168      
5. О. А. Семенова, А. М. Ефремов, С. М. Баринов, В. И. Светцов, “Кинетика и концентрации активных частиц в неравновесной низкотемпературной плазме метана”, ТВТ, 52:3 (2014), 357–364        ; O. A. Semenova, A. M. Efremov, S. M. Barinov, V. I. Svettsov, “Kinetics and Concentration of Active Particles in Nonequilibrium Low Temperature Methane Plasma”, High Temperature, 52:3 (2014), 348–355    
6. А. М. Ефремов, А. А. Давлятшина, В. И. Светцов, “Электрофизические параметры и состав плазмы в смесях $\mathrm{HCl}$–$\mathrm{N}_2$”, ТВТ, 51:1 (2013), 6–12    ; A. M. Efremov, A. A. Davlyatshina, V. I. Svetsov, “Electrophysical parameters and composition of $\mathrm{HCl}$–$\mathrm{N}_2$ mixture plasmas”, High Temperature, 51:1 (2013), 1–6      
7. В. А. Шахатов, Т. Б. Мавлюдов, Ю. А. Лебедев, “Исследование функций распределения молекулярного азота и его иона по колебательным и вращательным уровням в тлеющем разряде постоянного тока и СВЧ-разряде в смеси азота с водородом методом эмиссионной спектроскопии”, ТВТ, 51:4 (2013), 612–628      ; V. A. Shakhatov, T. B. Mavlyudov, Yu. A. Lebedev, “Studies of the distribution functions of molecular nitrogen and its ion over the vibrational and rotational levels in the dc glow discharge and the microwave discharge in a nitrogen-hydrogen mixture by the emission spectroscopy technique”, High Temperature, 51:4 (2013), 551–565      
8. Мурин Д.Б., Ефремов А.М., Светцов В.И., Пивоваренок С.А., Овцын А.А., Шабадаров С.С., “Интенсивности излучения и концентрации активных частиц в плазме тлеющего разряда в смесях хлористого водорода с аргоном и гелием”, Известия высших учебных заведений. Серия: химия и химическая технология, 56:4 (2013), 29–32    
9. Дунаев А.В., Пивоваренок С.А., Ефремов А.М., Светцов В.И., Капинос С.П., Юдина А.В., “Параметры плазмы и механизмы плазмохимического травления GaAs в смесях HCl с аргоном и хлором”, Микроэлектроника, 42:4 (2013), 271–271    
10. A. V. Dunaev, S. A. Pivovarenok, A. M. Efremov, V. I. Svettsov, S. P. Kapinos, A. V. Yudina, “Plasma parameters and mechanisms of GaAs reactive plasma etching in mixtures of HCl with argon and chlorine”, Russ Microelectron, 42:4 (2013), 212