|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние предварительной термообработки на эффективность образования
радиационных дефектов в бездислокационном кремнии
Физика и техника полупроводников, 26:8 (1992), 1509–1511
-
Особенности отжига компенсирующих радиационных дефектов
в бездислокационном $n$-кремнии
Физика и техника полупроводников, 26:6 (1992), 1142–1145
-
Рекомбинация носителей заряда в термообработанном Si с различными
типами ростовых микродефектов
Физика и техника полупроводников, 26:1 (1992), 176–180
-
Эффективность образования вакансионных и междоузельных комплексов
при облучении бездислокационного $n$-кремния
Физика и техника полупроводников, 25:1 (1991), 110–113
-
Радиационно-стимулированное образование термодоноров в зонном $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 24:10 (1990), 1721–1725
-
Влияние деформационных напряжений границы раздела
Si$-$SiO$_{2}$ на образование и отжиг радиационных дефектов в кремнии
Физика и техника полупроводников, 24:3 (1990), 517–520
-
Накопление и отжиг основных компенсирующих радиационных дефектов
в $p$-Si$\langle\text{Ge}\rangle$
Физика и техника полупроводников, 23:8 (1989), 1492–1495
-
Особенности образования рекомбинационных центров
при облучении бездислокационного $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 23:5 (1989), 885–887
-
Особенности накопления рекомбинационных центров при облучении $p$-Si
Физика и техника полупроводников, 23:4 (1989), 748–751
-
Рекомбинация носителей заряда на дислокациях и радиационных дефектах
в $p$-Si
Физика и техника полупроводников, 23:4 (1989), 722–725
-
Особенности образования радиационных дефектов в кремнии, легированном
германием
Физика и техника полупроводников, 22:12 (1988), 2223–2226
-
Эффективность образования фосфоросодержащих комплексов
при электронном и $\gamma$-облучении кремния
Физика и техника полупроводников, 22:11 (1988), 2071–2073
-
Формирование областей скопления радиационных дефектов
в дислокационном кремнии
Физика и техника полупроводников, 22:3 (1988), 499–502
-
Смещение уровня Ферми и конверсия типа проводимости
при облучении $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 21:4 (1987), 746–748
-
Особенности накопления радиационных дефектов в высокоомном
$p$-кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:10 (1986), 1894–1897
-
Рекомбинационные свойства радиационных дефектов в трансмутационно
легированном кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:5 (1986), 964–967
-
Рекомбинационная активность дислокаций в кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:4 (1986), 767–770
-
Процессы комплексообразования в кремнии при изменении температуры
облучения
Физика и техника полупроводников, 20:4 (1986), 742–744
-
Энергия активации термической ионизации радиационных дефектов
в дислокационном кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986), 345–347
-
Природа и параметры примесно-дефектных скоплений
в нейтронно-легированном кремнии
Физика и техника полупроводников, 19:11 (1985), 2014–2017
-
Особенности образования и отжига радиационных дефектов в Si из-за
взаимодействия их с поверхностью
Физика и техника полупроводников, 18:6 (1984), 1007–1010
-
Радиационное изменение времени жизни носителей заряда
в дислокационном кремнии
Физика и техника полупроводников, 18:3 (1984), 543–545
-
Влияние интенсивности облучения на скорость аннигиляции вакансий
и междоузлий в кремнии
Физика и техника полупроводников, 18:2 (1984), 345–347
-
Влияние условий облучения и примесного состава кремния
на параметры областей скопления дефектов
Физика и техника полупроводников, 17:10 (1983), 1902–1904
-
Природа дефектов и особенности их образования при облучении
нейтронно-легированного кремния
Физика и техника полупроводников, 17:9 (1983), 1601–1603
-
Взаимодействие точечных и групповых радиационных дефектов
в дислокационном кремнии
Физика и техника полупроводников, 17:8 (1983), 1517–1519
-
Взаимодействие дефектов вакансионного и междоузельного типов при
отжиге облученного $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 17:1 (1983), 166–168
-
Энергетический спектр радиационных нарушений в монокристаллах кремния
Докл. АН СССР, 169:3 (1966), 562–564
© , 2024