|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Механизм деградации (GaAs/AlGaAs)-лазера с квантовой ямой
Физика и техника полупроводников, 26:10 (1992), 1760–1767
-
Свойства и особенности кристаллизации эпитаксиальных слоев GaAs,
выращенных на подложках Si(100) методом двухстадийного осаждения в МОС
гидридном процессе
Физика и техника полупроводников, 25:6 (1991), 1022–1029
-
Быстродействующая оптоэлектронная интегральная схема
«инжекционный лазер — полевой транзистор» на
основе гетероструктуры AlGaAs/GaAs
Письма в ЖТФ, 16:14 (1990), 70–74
-
Математическое моделирование процессов нестационарного массопереноса
в объеме газоэпитаксиального реактора
при выращивании структур МОС-гидридным
методом
ЖТФ, 59:4 (1989), 149–153
-
Получение МОС гидридным методом при пониженном давлении
и фотолюминесцентные исследования GaAs/AlGaAs квантово-размерных структур
Физика и техника полупроводников, 23:8 (1989), 1420–1425
-
Экспериментальное и численное исследование выращивания эпитаксиальных
слоев GaAs и твердого раствора AlGaAs в горизонтальном реакторе при
пониженном давлении
Письма в ЖТФ, 15:15 (1989), 76–79
-
Квантово-размерные лазерные AlGaAs/GaAs-гетероструктуры, полученные
МОС гидридным методом. Квантовый выход люминесценции и пороги генерации
Физика и техника полупроводников, 22:12 (1988), 2111–2117
-
Флуктуации ширины квантовых ям
и низкотемпературная фотолюминесценция
GaAs/AlGaAs квантоворазмерных структур,
полученных МОС-гидридным методом
Письма в ЖТФ, 14:13 (1988), 1217–1220
-
Исследование
GaAs$-$AlGaAs квантово-размерных структур, полученных МОС-гидридным методом
Письма в ЖТФ, 14:3 (1988), 222–226
-
Токовое управление профилем толщины и «токовое раскисление»слоев (AlGa)As, выращенных в канавках
ЖТФ, 57:4 (1987), 778–782
-
Рентгенодифракционное и рентгенофотоэлектронное измерение параметров
периодических GaAs$-$AlGaAs-структур, полученных МОС гидридным методом
Физика и техника полупроводников, 21:10 (1987), 1745–1749
-
Механизм усиления фототока в GaAs$-$AlGaAs-структурах
Физика и техника полупроводников, 21:7 (1987), 1327–1329
-
Электрические и фотоэлектрические свойства
$n^{+}{-}n^{0}{-}n^{+}$-структур на основе GaAs с металлической сеткой
в $n^{0}$-области
Физика и техника полупроводников, 21:6 (1987), 981–983
-
Влияние уровня легирования на электрофизические свойства твердого
раствора Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As : Si
Физика и техника полупроводников, 21:4 (1987), 754–756
-
$N$-образная вольтамперная характеристика
при электропоглощении в двойной гетероструктуре
Физика и техника полупроводников, 21:4 (1987), 703–706
-
Механизм $S$-образной ВАХ в многослойной изотипной
GaAs$-$AlGaAs-гетероструктуре
Физика и техника полупроводников, 21:3 (1987), 494–499
-
Анализ нестационарных явлений в объеме реактора в процессе выращивания
Al$-$Ga$-$As структур с резкими гетеропереходами МОС гидридным методом
ЖТФ, 56:2 (1986), 361–366
-
Непрерывные одночастотные инжекционные гетеролазеры $Ga\,Al\,As$, полученные гибридной технологией с использованием методов газофазной и жидкофазной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 12:10 (1986), 577–582
-
Исследование факторов, определяющих однородность толщины эпитаксиальных слоев арсенида галлия в системе $Ga(CH_{3})_{3}-As\,H_{3}-H_{2}$
Письма в ЖТФ, 12:8 (1986), 506–509
-
Арсенид-галлиевый вертикальный полевой транзистор со скрытым затвором
Письма в ЖТФ, 12:3 (1986), 183–186
-
Исследование вертикальных полевых фототранзисторов
на основе GaAs. Механизм усиления и кинетика фототока
Физика и техника полупроводников, 19:10 (1985), 1731–1735
-
Вертикальное фотосопротивление на основе $n^0-Ga\,As$
Письма в ЖТФ, 11:13 (1985), 800–803
-
Исследование многослойных $Ga\,As-Al\,Ga\,As$ структур на наклонных сечениях, изготовленных химическим травлением
Письма в ЖТФ, 11:1 (1985), 21–24
-
Электрофизические характеристики метастабильных твердых растворов
(Ge$_{2}$)$_{x}$(GaAs)$_{1-x}$ и влияние на них термообработки
Физика и техника полупроводников, 18:8 (1984), 1438–1445
-
Интенсивность спектра фотолюминесценции и времена испускания оптических фононов в кристаллах GaAs и гетероструктурах GaAs$-$GaAlAs
Физика твердого тела, 25:1 (1983), 104–109
© , 2024