|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Некоторые эффекты, влияющие на профиль распределения внедренных ионов
в кристаллических мишенях полупроводниковых соединений
A$^{\text{III}}$B$^{\text{V}}$ после ионной имплантации
Физика и техника полупроводников, 25:3 (1991), 373–378
-
Применение высокоразрешающей спектроскопии упругого отражения
для исследования дифракционных эффектов при взаимодействии быстрых электронов
с монокристаллами
Письма в ЖТФ, 17:7 (1991), 10–12
-
Электронный аналог метода обратного рассеяния быстрых ионов
для исследования глубинных профилей дефектов в монокристаллах
Письма в ЖТФ, 15:17 (1989), 30–33
-
Определение химического состава соединений по энергетическим спектрам упругого отражения быстрых электронов
Письма в ЖТФ, 13:17 (1987), 1043–1047
-
Влияние поверхностной диссоциации на свойства ионно-имплантированных
$p$-слоев карбида кремния
Физика и техника полупроводников, 20:1 (1986), 170–172
-
Влияние нецентросимметричности кристаллической решетки на картины каналирования электронов
Письма в ЖТФ, 12:8 (1986), 501–505
-
Исследование влияния режимов ионной имплантации и отжига карбида
кремния на кристаллическую структуру и сопротивление слоев $p$-типа
проводимости
Физика и техника полупроводников, 18:6 (1984), 1098–1100
-
Термоупругие напряжения при импульсном отжиге кремния в миллисекундном диапазоне
Физика и техника полупроводников, 18:4 (1984), 747–750
© , 2024