|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Центры дилатации в облученном электронами кремнии
Физика и техника полупроводников, 26:11 (1992), 1928–1931
-
Магнитное упорядочение кислородосодержащих термодоноров в кремнии
Физика и техника полупроводников, 25:11 (1991), 1864–1869
-
О некоторых механизмах влияния тепловой предыстории на поведение
параметров кремния под облучением
Физика и техника полупроводников, 25:11 (1991), 1857–1863
-
Электронные свойства бистабильных дефектов
Физика и техника полупроводников, 24:10 (1990), 1795–1799
-
Особенности спектров ИК поглощения термодоноров
в кристаллах Si : Ge
Физика и техника полупроводников, 24:6 (1990), 1129–1132
-
Структура полос поглощения термодонорных центров в кремнии
Физика и техника полупроводников, 24:6 (1990), 1126–1129
-
Структура ИК поглощения кислорода в германии
Физика и техника полупроводников, 24:6 (1990), 1051–1055
-
Трансформация точечных дефектов при отжиге Si и Si : Ge, облученных
нейтронами
Физика и техника полупроводников, 24:6 (1990), 993–996
-
Кислородосодержащие термодоноры, образующиеся в кремнии
при «горячем» $\gamma$-облучении
Физика и техника полупроводников, 24:2 (1990), 374–376
-
Эффективность аннигиляции компонентов пар Френкеля на атомах
кислорода в Si
Физика и техника полупроводников, 23:5 (1989), 914–916
-
Кластерный расчет деформационных зарядов дефектов в кремнии
Физика и техника полупроводников, 23:4 (1989), 746–748
-
Упругие напряжения в Si с электрически пассивными примесями
Физика и техника полупроводников, 23:4 (1989), 704–706
-
Влияние термодоноров на радиационное дефектообразование в кремнии
Физика и техника полупроводников, 23:2 (1989), 250–252
-
Подвижность носителей тока в твердых растворах
Ge$_{1-x}$Si$_{x}$
Физика и техника полупроводников, 23:1 (1989), 48–51
-
Время жизни первичных радиационных дефектов в кремнии
ЖТФ, 58:6 (1988), 1180–1181
-
Внутренние упругие напряжения в кремнии, легированном гадолинием
Физика и техника полупроводников, 22:12 (1988), 2220–2223
-
Влияние примеси олова на накопление радиационных дефектов в $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 22:6 (1988), 1149–1151
-
Влияние германия на внутренние упругие напряжения
в кислородосодержащем кремнии
Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 313–315
-
Исследование электронно-колебательной структуры изоэлектронных
примесей в кремнии.
Изменение электронных свойств при зарождении фазы Ge
в Si
Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 285–288
-
Рекомбинационные и компенсирующие дефекты в $n$-Si
при облучении одиночными импульсами электронов
большой интенсивности
Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 215–218
-
Рекомбинация в $n$-Si при термообработке и облучении
Физика и техника полупроводников, 22:2 (1988), 206–209
-
Отжиг метастабильных пар Френкеля в $n$-Ge, облученном электронами
с энергией 0.6 МэВ и 1.2 МэВ
Письма в ЖТФ, 14:24 (1988), 2299–2302
-
Влияние германия на свойства Si${-}S1$-центра в твердом растворе Si$_{1-x}$Ge$_{x}$
Физика твердого тела, 29:7 (1987), 2217–2220
-
Рекомбинация в Si после термообработки и $\gamma$-облучения
Физика и техника полупроводников, 21:11 (1987), 2082–2084
-
Исследование электронной структуры изоэлектронных примесей
в кремнии. Атомы С, Ge и их комплексы с вакансиями
Физика и техника полупроводников, 21:10 (1987), 1837–1841
-
О механизме дефектообразования в сплавах Si$_{1-x}$Ge$_{x}$
при электронном облучении
Физика и техника полупроводников, 21:3 (1987), 570–573
-
Особенности процессов радиационного дефектообразования в кристаллах
Si$\langle$Ge$\rangle$
Физика и техника полупроводников, 21:3 (1987), 562–565
-
Исследование колебательных спектров поглощения кислорода в твердых
растворах Si$\langle$Ge$\rangle$
Физика и техника полупроводников, 20:12 (1986), 2222–2225
-
Влияние термоотжига и $\gamma$-облучения на изменение удельного
сопротивления $n$-германия в магнитном поле
Физика и техника полупроводников, 20:11 (1986), 2109–2111
-
Влияние закалки на свойства мелких доноров в кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:10 (1986), 1884–1886
-
Уширение полос поглощения водородоподобных центров в кремнии
с изовалентными примесями
Физика и техника полупроводников, 20:9 (1986), 1647–1653
-
Определение сдвиговой константы деформационного потенциала $\Theta_{u}$
в трансмутационно-легированных кристаллах кремния
Физика и техника полупроводников, 20:6 (1986), 1107–1109
-
Деформационные заряды изовалентных примесей в кремнии
Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986), 270–274
-
ЭПР тензозондов в кремнии, легированном гадолинием
Физика твердого тела, 27:6 (1985), 1824–1829
-
К вопросу о радиационной стойкости кремниевых магниточувствительных
транзисторов
ЖТФ, 55:6 (1985), 1247–1248
-
Эффективность образования дефектов в $n$-Si при облучении электронами
с энергией 1 МэВ
Физика и техника полупроводников, 19:12 (1985), 2202–2204
-
Изучение локальных искажений ячеечного потенциала доноров в сплаве Si$_{1-x}$Ge$_{x}$ методами ЭПР и спин-решеточной релаксации
Физика твердого тела, 26:11 (1984), 3338–3346
-
Исследование радиационных дефектов в сплаве Si$-$Ge методом ЭПР и ИК
спектроскопии
Физика и техника полупроводников, 18:11 (1984), 2020–2023
-
Магнитная восприимчивость кремния, легированного гадолинием
Физика и техника полупроводников, 17:8 (1983), 1490–1492
-
Радиационно-стимулированное гетерирование структурных дефектов
в гетеросистемах Si$_{x}$Ge$_{1-x}{-}$GaAs
Физика и техника полупроводников, 17:7 (1983), 1349–1351
-
Распределение пар Френкеля по расстояниям в облученных кремнии
и германии
Физика и техника полупроводников, 17:3 (1983), 437–440
-
Антонина Федоровна Прихотько (К восьмидесятилетию со дня рождения)
УФН, 149:4 (1986), 733–734
© , 2024