Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Расчет доз аморфизации кремния при облучении легкими ионами средних энергий
Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 771–777
-
Влияние кислородных вакансий на формирование и структуру филамента в мемристорах на основе диоксида кремния
Письма в ЖТФ, 46:1 (2020), 24–27
-
Расчет влияния плотности ионного тока и температуры на кинетику накопления точечных дефектов при облучении кремния легкими ионами
Физика и техника полупроводников, 52:9 (2018), 967–972
-
Взаимодействие дефектов при диффузии фосфора в кремнии
Физика твердого тела, 28:10 (1986), 3226–3228
-
Влияние давления на скорость рекристаллизации аморфизованного слоя кремния при постимплантационном отжиге
Физика твердого тела, 27:1 (1985), 274–277
© , 2024