RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Окулич В И

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Расчет доз аморфизации кремния при облучении легкими ионами средних энергий

    Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020),  771–777
  2. Влияние кислородных вакансий на формирование и структуру филамента в мемристорах на основе диоксида кремния

    Письма в ЖТФ, 46:1 (2020),  24–27
  3. Расчет влияния плотности ионного тока и температуры на кинетику накопления точечных дефектов при облучении кремния легкими ионами

    Физика и техника полупроводников, 52:9 (2018),  967–972
  4. Взаимодействие дефектов при диффузии фосфора в кремнии

    Физика твердого тела, 28:10 (1986),  3226–3228
  5. Влияние давления на скорость рекристаллизации аморфизованного слоя кремния при постимплантационном отжиге

    Физика твердого тела, 27:1 (1985),  274–277


© МИАН, 2024