RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Вулис Юрий Давыдович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Образование и температурная стабильность дефектов в приповерхностном слое Si структур Si$-$SiO$_{2}$, имплантированных ионами Ti

    Физика и техника полупроводников, 18:4 (1984),  696–699


© МИАН, 2024