RUS
ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ
Поспелов Валентин Васильевич
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
Образование и температурная стабильность дефектов в приповерхностном слое Si структур Si
$-$
SiO
$_{2}$
, имплантированных ионами Ti
Физика и техника полупроводников
,
18
:4 (1984),
696–699
©
МИАН
, 2024