RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Гращенко Александр Сергеевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Самоорганизация состава пленок Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N, выращенных на гибридных подложках SiC/Si

    Физика твердого тела, 63:3 (2021),  363–369
  2. Механические свойства композитного покрытия SiC на графите, полученного методом замещения атомов

    Письма в ЖТФ, 47:20 (2021),  7–10
  3. Светодиод на основе AlInGaN-гетероструктур, выращенных на подложках SiC/Si и технология его изготовления

    Письма в ЖТФ, 47:18 (2021),  3–6
  4. Особенности эпитаксиального роста III – N светодиодных гетероструктур на подложках SiC/Si

    Письма в ЖТФ, 47:15 (2021),  15–18
  5. Исследование механических свойств эпитаксиальных слоев метастабильных $\alpha$- и $\varepsilon$-фаз Ga$_{2}$O$_{3}$ методом наноиндентирования

    Письма в ЖТФ, 47:14 (2021),  3–7
  6. Покрытие наноструктурированной профилированной поверхности Si слоем SiC

    Письма в ЖТФ, 46:20 (2020),  19–22
  7. Исследование методом наноиндентирования твердости и модуля Юнга в тонких приповерхностных слоях карбида кремния со стороны Si- и C-граней

    Письма в ЖТФ, 46:15 (2020),  36–38
  8. Исследование упругих свойств пленок SiC, синтезированных на подложках Si методом замещения атомов

    Физика твердого тела, 61:12 (2019),  2313–2315
  9. Эволюция ансамбля микропор в структуре SiC/Si в процессе роста методом замещения атомов

    Физика твердого тела, 61:3 (2019),  433–440
  10. Фотоэлектрические свойства слоев GaN, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии с плазменной активацией на подложках Si(111) и эпитаксиальных слоях SiC на Si(111)

    Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019),  190–198
  11. Рост полупроводниковых III–V гетероструктур на подложках SiC/Si

    Письма в ЖТФ, 45:14 (2019),  24–27
  12. Исследование анизотропных упругопластических свойств пленок $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$, синтезированных на подложках SiC/Si

    Физика твердого тела, 60:5 (2018),  851–856
  13. Фотоэлектрические характеристики структур карбид кремния–кремний, выращенных методом замещения атомов в кристаллической решетке кремния

    Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017),  651–658


© МИАН, 2024