|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Самоорганизация состава пленок Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N, выращенных на гибридных подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 63:3 (2021), 363–369
-
Механические свойства композитного покрытия SiC на графите, полученного методом замещения атомов
Письма в ЖТФ, 47:20 (2021), 7–10
-
Светодиод на основе AlInGaN-гетероструктур, выращенных на подложках SiC/Si и технология его изготовления
Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 3–6
-
Особенности эпитаксиального роста III – N светодиодных гетероструктур на подложках SiC/Si
Письма в ЖТФ, 47:15 (2021), 15–18
-
Исследование механических свойств эпитаксиальных слоев метастабильных $\alpha$- и $\varepsilon$-фаз Ga$_{2}$O$_{3}$ методом наноиндентирования
Письма в ЖТФ, 47:14 (2021), 3–7
-
Покрытие наноструктурированной профилированной поверхности Si слоем SiC
Письма в ЖТФ, 46:20 (2020), 19–22
-
Исследование методом наноиндентирования твердости и модуля Юнга в тонких приповерхностных слоях карбида кремния со стороны Si- и C-граней
Письма в ЖТФ, 46:15 (2020), 36–38
-
Исследование упругих свойств пленок SiC, синтезированных на подложках Si методом замещения атомов
Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2313–2315
-
Эволюция ансамбля микропор в структуре SiC/Si в процессе роста методом замещения атомов
Физика твердого тела, 61:3 (2019), 433–440
-
Фотоэлектрические свойства слоев GaN, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии с плазменной активацией на подложках Si(111) и эпитаксиальных слоях SiC на Si(111)
Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 190–198
-
Рост полупроводниковых III–V гетероструктур на подложках SiC/Si
Письма в ЖТФ, 45:14 (2019), 24–27
-
Исследование анизотропных упругопластических свойств пленок $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$, синтезированных на подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 60:5 (2018), 851–856
-
Фотоэлектрические характеристики структур карбид кремния–кремний, выращенных методом замещения атомов в кристаллической решетке кремния
Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017), 651–658
© , 2024