|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние предобработки подложки кремния на свойства пленок GaN, выращенных методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 55:8 (2021), 704–710
-
Структурно-спектроскопические исследования эпитаксиальных слоев GaAs, выращенных на податливых подложках на основе сверхструктурного слоя и протопористого кремния
Физика и техника полупроводников, 55:1 (2021), 86–95
-
Влияние слоя нанопористого кремния на практическую реализацию и особенности эпитаксиального роста слоев GaN на темплейтах SiC/$por$-Si/$c$-Si
Физика и техника полупроводников, 54:5 (2020), 491–503
-
Влияние буферного слоя $por$-Si на структуру и морфологию эпитаксиальных гетероструктур In$_{x}$Ga$_{1-x}$N/Si(111)
Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018), 1553–1562
-
Влияние разориентации подложки и ее предварительного травления на структурные и оптические свойства интегрированных гетероструктур GaAs/Si(100), полученных методом газофазной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 52:8 (2018), 881–890
-
Экспериментальные исследования влияния эффектов атомного упорядочения в эпитаксиальных твердых растворах Ga$_{x}$In$_{1-x}$P на их оптические свойства
Физика и техника полупроводников, 51:9 (2017), 1160–1167
-
Экспериментальные исследования влияния эффектов атомного упорядочения в эпитаксиальных твердых растворах Ga$_{x}$In$_{1-x}$P на их структурные и морфологические свойства
Физика и техника полупроводников, 51:8 (2017), 1131–1137
© , 2024