|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Начальные стадии роста полуполярного AlN на наноструктурированной Si(100) подложке
Физика и техника полупроводников, 55:10 (2021), 908–911
-
Образование полуполярных III-нитридных слоев на поверхности Si(100), структурированной с помощью самоформирующейся наномаски
Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 356–359
-
Пластическая релаксация напряженного полуполярного AlN(10$\bar1$1) слоя, синтезированного на наноструктурированной Si(100) подложке
ЖТФ, 90:12 (2020), 2123–2126
-
Газофазная эпитаксия слоев AlN на темплейте AlN/Si(111), синтезированном методом реактивного магнетронного распыления
Письма в ЖТФ, 46:8 (2020), 29–31
-
Хлорид-гидридная газофазная эпитаксия полуполярного слоя AlN(10$\bar{1}$2) на наноструктурированной подложке Si(100)
Письма в ЖТФ, 46:2 (2020), 12–14
-
Синтез гексагональных слоев AlN и GaN на Si(100)-подложке методом хлоридной газофазной эпитаксии
ЖТФ, 89:4 (2019), 574–577
-
Cвойства полуполярного GaN, выращенного на подложке Si(100)
Физика и техника полупроводников, 53:7 (2019), 1006–1009
-
Эпитаксия слоев GaN(0001) или GaN(10$\bar1$1) на подложке Si(100)
Письма в ЖТФ, 45:11 (2019), 3–5
-
Полуполярные GaN-слои на наноструктурированной Si(100)-подложке
Письма в ЖТФ, 44:12 (2018), 45–51
-
Гексагональные слои AlN, выращенные на сульфидированной Si(100)-подложке
Письма в ЖТФ, 44:2 (2018), 96–103
-
Остановка и разворот дислокаций несоответствия при росте нитрида галлия на подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 59:4 (2017), 660–667
© , 2024