|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Особенности температурной стабильности сопротивления омических контактов к наногетероструктурам на основе GaAs и GaN
Физика и техника полупроводников, 55:12 (2021), 1260–1263
-
Анализ влияния спейсерных слоев на нелинейные искажения вольт-амперных характеристик pHEMT на основе соединения GaAlAs/InGaAs
Физика и техника полупроводников, 55:10 (2021), 872–876
-
Исследование ионной имплантации азота через слой нитрида кремния для межприборной изоляции силовых GaN/Si-транзисторов
Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 15–17
-
Исследование влияния атомарного состава на скорость плазмохимического травления нитрида кремния в силовых транзисторах на основе AlGaN/GaN-гетероперехода
Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 748–752
-
Нелегированный высокоомный буферный слой GaN для HEMT AlGaN/GaN
Письма в ЖТФ, 45:15 (2019), 21–24
-
AlN/GaN-гетероструктуры для нормально закрытых транзисторов
Физика и техника полупроводников, 51:3 (2017), 395–402
-
Теоретические и экспериментальные исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик HEMT структур и полевых транзисторов
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1599–1604
-
Влияние параметров гетероструктур AlN/GaN/AlGaN и AlN/GaN/InAlN с двумерным электронным газом на их электрофизические свойства и характеристики транзисторов на их основе
Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1401–1407
-
Исследование распределения электронов в GaN и GaAs структурах после $\gamma$-нейтронного облучения
Физика и техника полупроводников, 50:3 (2016), 331–338
-
Оптимизация параметров HEMT-гетероструктур GaN/AlN/ AlGaN для СВЧ транзисторов с помощью численного моделирования
Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016), 245–249
-
Нормально закрытые транзисторы на основе in situ пассивированных гетероструктур AlN/GaN
Письма в ЖТФ, 42:14 (2016), 72–79
-
Cолнечно-слепые Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N ($x>$ 0.45) $p$–$i$–$n$-фотодиоды с поляризационно-легированным $p$-эмиттером
Письма в ЖТФ, 42:12 (2016), 57–63
© , 2024