|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Диссипативное туннелирование электронов в вертикально связанных двойных асимметричных квантовых точках InAs/GaAs(001)
ЖТФ, 91:10 (2021), 1431–1440
-
Сравнение гетероструктур А$^{\mathrm{III}}$В$^{\mathrm{V}}$, выращенных на платформах Ge/Si, Ge/SOI и GaAs
Физика и техника полупроводников, 55:11 (2021), 978–988
-
Влияние состава зародышевого слоя AlGaAs на формирование антифазных доменов в структурах (Al)GaAs, выращенных газофазной эпитаксией на подложках Ge/Si(100)
Письма в ЖТФ, 47:8 (2021), 37–40
-
Лазерный GaAs-диод с волноводными квантовыми ямами InGaAs
Физика и техника полупроводников, 53:12 (2019), 1718–1720
-
Исследования поперечного среза и фотолюминесценции слоя GaAs, выращенного на подложке Si/Al$_{2}$O$_{3}$
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1271–1274
-
Субмонослойные квантовые точки InGaAs/GaAs, выращенные методом МОС-гидридной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 53:8 (2019), 1159–1163
-
Выращивание методом МОС-гидридной эпитаксии субмонослойных квантовых точек InGaAs/GaAs для возбуждения поверхностных плазмон-поляритонов
Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019), 345–350
-
Применение компенсирующих слоев GaAsP для роста лазерных гетероструктур с квантовыми ямами InGaAs/GaAs, излучающих на длинах волн больше 1100 нм, на искусственных подложках Ge/Si
Физика и техника полупроводников, 52:12 (2018), 1443–1446
-
Стимулированное излучение на длине волны 1.3 $\mu$m в метаморфной структуре InGaAs/InGaAsP с квантовыми ямами, выращенной на подложке Ge/Si (001)
Письма в ЖТФ, 44:16 (2018), 67–74
-
Особенности выращивания лазерных структур InGaAs/ GaAs/AlGaAs методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках Ge/Si
Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017), 1579–1582
-
Технология изготовления лазерных диодов из структур GaAs/InGaAs/AlGaAs, выращенных на Ge/Si подложке
Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017), 1530–1533
-
Оптический тиристор на основе системы материалов GaAs/InGaP
Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017), 1443–1446
-
Стимулированное излучение лазерных структур InGaAs/ GaAs/AlGaAs, выращенных методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на неотклоненной и отклоненной подложках Ge/Si(001)
Физика и техника полупроводников, 51:5 (2017), 695–698
-
Влияние “объема” активной среды на излучательные свойства лазерных гетероструктур с выходом излучения через подложку
Физика и техника полупроводников, 51:1 (2017), 75–78
-
Наногетероструктуры с улучшенными параметрами для быстродействующих и высокоэффективных плазмон-поляритонных светодиодов Шоттки
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1576–1582
-
Метод уменьшения ширины диаграммы направленности InGaAs/GaAs/AlGaAs многоямного гетеролазера
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1509–1512
-
Cтимулированное излучение в гетероструктурах с двойными квантовыми ямами InGaAs/GaAsSb/GaAs, выращенных на подложках GaAs и Ge/Si(001)
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1455–1458
© , 2024