Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Состав и морфология поверхности Si(111) с поверхностной пленкой SiO$_{2}$ разной толщины
Физика и техника полупроводников, 55:11 (2021), 1045–1048
-
Изучение критического угла каналирования ионов активных металлов через тонкие пленки алюминия
Письма в ЖТФ, 47:23 (2021), 12–14
-
Влияние поэтапного постимплантационного отжига на состав и структуру поверхностных слоев кремния, имплантированного ионами щелочных металлов
Письма в ЖТФ, 47:1 (2021), 15–19
-
Модификация свойств поверхности свободных пленок Si–Cu имплантацией ионов активных металлов
ЖТФ, 90:1 (2020), 123–127
-
Формирование наноразмерных пленок SiO$_{2}$ на поверхности свободной пленочной системы Si/Cu при имплантации ионов O$_{2}^{+}$
ЖТФ, 89:6 (2019), 935–937
© , 2024