|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние быстрого термического отжига на распределение атомов азота в GaAsN/GaAs
Физика и техника полупроводников, 55:11 (2021), 1077–1080
-
Высокоточная характеризация сверхмногопериодных AlGaAs/GaAs-сверхрешеток с помощью рентгеновской рефлектометрии на синхротронном источнике
Письма в ЖТФ, 47:15 (2021), 7–10
-
Коррекция характеристик кремниевых фотодиодов путем применения ионной имплантации
Физика и техника полупроводников, 54:6 (2020), 557–563
-
Оптические свойства гибридных гетероструктур GaN/SiC/$por$-Si/Si(111)
Физика и техника полупроводников, 54:4 (2020), 346–354
-
Металл-усиленное фотохимическое травление N- и Ga-полярных эпитаксиальных слоев GaN
Физика и техника полупроводников, 53:12 (2019), 1726–1732
-
Особенности МПЭ ПА синтеза слоев $n^{+}$-GaN на виртуальных подложках GaN/$c$-Al$_{2}$O$_{3}$
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1212–1217
-
Влияние буферного слоя por-Si на оптические свойства эпитаксиальных гетероструктур In$_{x}$Ga$_{1-x}$N/Si(111) с наноколончатой морфологией пленки
Физика и техника полупроводников, 53:1 (2019), 70–76
-
Особенности начальных стадий роста GaN на подложках Si(111) при молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота
Физика и техника полупроводников, 52:12 (2018), 1425–1429
-
Исследование спонтанной эмиссии в брэгговских монослойных квантовых ямах InAs
Физика и техника полупроводников, 52:7 (2018), 736–740
-
Growth of GaN layers on Si(111) substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy
Физика и техника полупроводников, 52:5 (2018), 524
-
Исследование структурных и оптических свойств слоев GaP(N), синтезированных методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложкаx Si(100) 4$^\circ$
Физика и техника полупроводников, 51:2 (2017), 276–280
-
Влияние параметров нитридизации и начальных ростовых условий на полярность эпитаксиальных слоев GaN, выращенных молекулярно-пучковой эпитаксией с плазменной активацией азота на подложках Si(111)
Письма в ЖТФ, 43:21 (2017), 47–54
-
Влияние конструкции метаморфного буферного слоя на сохраняемость параметров метаморфного транзистора InGaAs/GaAs с высокой подвижностью электронов
Письма в ЖТФ, 43:18 (2017), 97–102
-
Рост и оптические свойства нитевидных нанокристаллов GaN, выращенных на гибридной подложке SiC/Si(111) методом молекулярно-пучковой эпитаксии
Физика твердого тела, 58:10 (2016), 1886–1889
-
Генерация квантово-каскадных лазеров на длине волны излучения 5.8 мкм при комнатной температуре
Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1320–1324
-
Гетероструктуры GaAs/InGaAsN для многопереходных солнечных элементов
Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 663–667
-
Лазерная генерация вертикальных микрорезонаторов с массивами квантовых точек InAs/InGaAs на длине волны 1.3 $\mu$m при оптической накачке
Письма в ЖТФ, 42:19 (2016), 70–79
-
Влияние конструкции переходного слоя In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As на транспортные характеристики метаморфного транзистора с высокой подвижностью электронов
Письма в ЖТФ, 42:6 (2016), 14–19
© , 2024